真空镀膜设备
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资格资质: 所属行业:
所服务产业: 机构住所:
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设备操作: 设备总价值:
                 
资源详情
设备介绍:
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
部门简介:
粉体技术研究开发北京市重点实验室依托于北京航空航天大学组建,2001年11月被北京市教委和北京市科委正式认定,现任重点实验室主任为沈志刚教授,学术委员会主任为卢寿慈教授。
实验室建设目标
北京航空航天大学粉体技术研究开发北京市重点实验室是在北航流体力学、复合材料力学和材料科学等专业的基础上组建而成的,专业从事粉体技术事业,已经有十多年的历史。在颗粒制备、颗粒分散、颗粒表面改性处理、固体废料的治理与综合利用等领域具有精深的专业优势和长期的实践经验,从理论和实践上追求粉体技术的原创性和高效益,以提高中国的粉体技术为己任,争创世界一流。
业绩荣誉:
主要获奖情况
1、完全物理方法回收处理废印刷电路板及其再利用研究  北京市人民政府  二等奖
2、空间环境原子氧剥蚀效应及其防护技术  国防科技 二等奖
3、微颗粒表面磁控溅射镀膜及其在电磁屏蔽中的应用  中国航空学会 二等奖
  
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